一、 特點(diǎn)
具有卓越的出光速度和特殊的填平能力,低電流密度區(qū)光亮填平極佳,鍍層潔白,光澤度高,韌性好,雜質(zhì)容忍量高,優(yōu)于鋅合金壓鑄件電鍍,單一添加,鍍液十分穩(wěn)定。
二、 工藝規(guī)范
原料組成及操作條件 | 范 圍 | 標(biāo)準(zhǔn)(一般開(kāi)缸份量) |
硫酸鎳(NiSO4﹒6H2O) | 240-300克/升 | 270克/升 |
氯化鎳(NiCl2﹒6H2O) | 45-75克/升 | 60克/升 |
硼 酸(H3BO3) | 37-53克/升 | 45克/升 |
PSN—66主光劑 | 0.5-2毫升/升 | 1毫升/升 |
PSN—66開(kāi)缸劑 | 9-12毫升/升 | 10毫升/升 |
PSN—66濕潤(rùn)劑 | 1-2毫升/升 | 1.5毫升/升 |
溫 度 | 50-60℃ | 55℃ |
PH 值 | 4-4.8 | 4.6 |
電流密度 | 2.2-10.8 A/dm2 | 6 A/dm2 |
攪拌方法 | 空氣或機(jī)械攪拌 | 空氣攪拌 |
過(guò) 濾 | 連續(xù)過(guò)濾 | 連續(xù)過(guò)濾 |